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セミナー・研究成果報告会

平成30年2月1日(木)
特許庁委託 産業財産権研究推進事業
平成29年度招へい研究者 研究成果報告会

一般財団法人知的財産研究教育財団、知的財産研究所では、特許庁から委託を受け、我が国の適切な産業財産権制度の設計・構築を推進するために、産業財産権に関する制度調和や制度整備が中期的に必要となる研究テーマについて、主に将来を担う国内外の研究者に研究を行わせ、我が国・諸外国の産業財産権に精通した研究者を輩出することを目的とした産業財産権研究推進事業を推進しています。その一環として、外国から研究者を招へいし、産業財産権に関する制度調和が必要となる研究テーマについて研究する機会を提供しています。
 この度、台湾の研究者が2月初旬に約7か月の招へい期間を終えて帰国する予定です。そこで、研究成果の発表及び参加者との意見交換を行う場を設けるために、研究成果報告会を下記のとおり開催いたしますので、御案内申し上げます。

日 時 平成30年2月1日(木)15:00-17:00
(14:30受付開始・開場 これ以前には入場できない場合があります。)
会 場 一般財団法人知的財産研究教育財団 知的財産研究所 5階会議室 (地図
東京都千代田区神田錦町三丁目11番地 精興竹橋共同ビル 5階
          東京メトロ東西線 竹橋駅(3b出口)より徒歩5分
          東京メトロ東西線 竹橋駅(1b出口)より徒歩4分
          東京メトロ半蔵門線、都営新宿線神保町駅より徒歩8分
          都営三田線 神保町駅(A9出口)より徒歩3分
参加費 無料
定 員 60名 (先着順)  
プログラム
14:30 受付開始
15:00 開会・主催者挨拶
15:05-16:35 "A Comparative Study on Patent Infringement Types and Court Judgements in United States, Japan, and Taiwan"
『米国、日本、台湾における特許権侵害のタイプと裁判判決の比較研究 (仮訳)』

Kao Chien-Chung (カオ・チェンチュン)招へい研究者
(※研究者の発表は英語で行い、日本語の逐次通訳が付きます。)
16:35-17:00 質疑応答
17:00 閉会
申込方法

1)WEB申込(推奨)
★参加申込フォームに必要事項を入力の上、送信してください。

WEBでの申込(SSL対応)

2)E-mail申込み
★参加申込メールに必要事項を入力の上、送信してください。

E-mailでの申込み

※お申込のご希望にそえない場合は、その旨ご連絡させていただきます。
※参加予定者のご都合が悪い場合には、代理の方が出席可能です。その場合、代理の方の御出席か、御欠席の旨をinvit-seminar17@fdn-ip.or.jp又は、お電話(03-5281-5673)で御連絡ください。

申込締切り

平成30年1月31日(水) ※定員になり次第締め切らせていただきます。

問合せ先

一般財団法人知的財産研究教育財団 知的財産研究所 金子(かねこ)
〒101-0054 東京都千代田区神田錦町三丁目11番地 精興竹橋共同ビル5階
Tel:03-5281-5674;   Fax:03-5281-5676;
E-mal :invit-seminar17@fdn-ip.or.jp

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“ A Comparative Study on Patent Infringement Types and Court Judgements in United States, Japan, and Taiwan “
『米国、日本、台湾における特許権侵害のタイプと裁判判決の比較研究 (仮訳)』

Kao Chien-Chung (カオ・チェンチュン)招へい研究者

【Abstract】

A person directly infringes a patent by making, using, offering to sell, selling, or importing any patented invention, without authority, during the term of the patent. Judging whether directly infringing or not usually depends on “all elements rule” or “doctrine of equivalence”. Unlike direct infringement, in the case where one or few elements are absent in an allegedly infringing device, however, the device increases the possibility of the infringement which could lead to indirect infringement. The United States and Japan have addressed indirect infringement for decades, including different requirements further codified in their respective statute laws. On the contrary, there is a lack of clear statutory language addressing indirect infringement in Taiwan patent law. This research will compare and analyze the differences between Japan, United States and Taiwan’s court judgments and patent laws about direct and indirect patent infringements, especially focusing on the relationships between direct and indirect patent infringements, defendant’s subjective requirements, infringement types, infringement objects, exclusions of infringement objects, etc. The necessity of adopting indirect infringement into Taiwan Patent Act and the advices will also be covered in this research.

【概要】 (仮訳)

特許権の存続期間中に許可なく特許発明を生産、使用、販売の申出、販売、または輸入をした者は、特許権を直接侵害することになる。直接侵害か否かの判断は、通常「オール・エレメント・ルール」または「均等論」に基づいてなされる。しかし、直接侵害と異なり、侵害被疑装置について1つまたはいくつかの要素が欠けている場合には、その装置は間接侵害を構成する可能性が高くなる。米国と日本は、何十年にもわたって間接侵害の問題に対処し、それぞれの法律に様々な要件を明文化してきた。一方、台湾の特許法には間接侵害を扱う明確な文言がない。この研究では、特許権の直接侵害及び間接侵害に関する日本・米国・台湾の裁判例と特許法の違いを、特に直接侵害及び間接侵害の関係、被告の主観的要件、侵害のタイプ、侵害の対象、侵害対象の例外等に注目しながら比較分析する。また、この研究では、台湾特許法に対する間接侵害規定の導入の必要性及び提言についても言及する。

【略歴】

長原(チョンエン)クリスチャン大学より工学士、国立中央大学より工学修士の学位取得。現在、台湾経済部知慧財産局(TIPO,台湾特許庁)の審査官。

【招へい期間】

平成29年7月4日~平成30年2月3日(予定)

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