2025年11月14日、15日、知財研は、「令和7年度知的財産保護包括協力推進事業」（特許庁委託）の一環として、中国側の共同研究者に日本の制度についての理解を深め、日本の産業界や実務家の意見・要望を聞き、意見交換を行うために、東京において第二回会議を開催しました。

意見交換会（11月14日）

午前は日本を代表する企業の1つである株式会社リコーを訪問し、知財ご担当者の方々より同社のご紹介や企業知財実務の取り組みや課題認識に関する説明を受け、意見交換を行いました。
午後は、産業界を代表して一般社団法人日本知的財産協会、日本デザイン団体協議会（DOO）より「間接侵害の法制化に関して-使用環境特徴の観点から-」、「新規性喪失の例外にかかる問題（意匠）」、「日中両国における商標保護の実効性向上に向けた課題と提言」、「パッケージデザイン領域における知的財産保護の現状と課題～生成AIへの対応を含めて～」、「デザインビジネスと知的財産権」と題してご講演いただき、産業界や産業財産法やその隣接する法律又はその運用に関して、どのような改善を求め、ご要望があるか等、意見交換を行いました。

研究者会議（11月15日）

日中両国から実務家をお招きし、本年度の研究テーマ「間接侵害に関する比較研究」、「意匠の登録要件（新規性、創作非容易性）や同一性（補正、優先権）に関する比較研究」に則して、実務的な観点からご講演いただき、更に、意見交換を行いました。これにより、日中の知的財産権制度の実情についての情報を交換し、相互理解を深めました。 次回は、来年の1月に、日中共同研究の研究成果の発表会を開催する予定となっています。